先進化學過濾技術助力半導體AMC防控
- 2024-07-11
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- 深圳市億天凈化技術有限公司
AMC是影響半導體制程的重要因素,主要表現為表面分子污染,這是由氣態分子和特定表面作用而形成非常薄的化學膜,化學膜通常改變產品表面的物理、電子、化學和光學特性而導致質量缺陷,造成產品良品率下降。AMC種類復雜、來源廣泛、控制難度高。
AMC控制方案
化學過濾器用于去除AMC。在潔凈室的凈化空調系統中,包括新風處理機組(MAU)配置化學過濾器,風機過濾單元(FFU)上安裝化學過濾器,以保持大環境、微環境中合格的空氣質量。
此外為了滿足各生產工序設備維修的需要,當其他的系統不能經濟合理地提供所需要的凈化處理時,設置移動式深層空氣化學過濾器,去除局部高濃度的污染氣體,避免高濃度的污染氣體進入潔凈室循環風系統。
采用先進化學過濾技術去除AMC
化學反應:濾料化學反應
污染物同吸附劑中的化學物質發生化學反應,從而達到去除污染物的目的
該過程非常特殊,取決于吸附劑和被吸附物的化學性質
該過程基本速度很快,并且是不可逆的
可以將有毒有害氣體化學氧化為無害的固體
濾料特點
去除效率高,過濾效率可達 95% 以上
化學反應式過濾原理,無有毒物質釋放
產品種類多,能滿足各類氣態污染物過濾需求
性能穩定,處理能力強,反應迅速
無細菌和微生物滋生
化學過濾器采用了先進的材料和技術,確保了對AMC的高效去除。這些過濾器不僅具備出色的吸附能力,而且能夠根據污染物的種類和濃度進行精確調節,以適應不同工藝階段的需求。
化學過濾器特點:
安裝方便,操作簡單;
高效過率,比傳統活性炭更廣譜去除氣態分子污染物;
低阻力,無遞增壓損,節能環保;
使用壽命長,通過化學吸附法去除氣態污染物,氣態污染物與濾料發生化學反應,有效杜絕空氣環境的二次污染,永久去除氣態污染物。
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